Intel начала устанавливать производственное оборудование на строящемся заводе Fab 62 в Аризоне. Предприятие станет шестой фабрикой компании на кампусе Ocotillo, а запустить его планируют до конца 2028 года.
По словам исполнительного вице-президента Intel и руководителя производственного направления Наги Чандрасекарана, проект перешёл от возведения зданий к монтажу и настройке производственных систем, после чего начнётся квалификация технологических процессов. Планируемую производительность, стоимость строительства и конкретный техпроцесс компания пока не раскрыла. Среди рассматриваемых вариантов — Intel 18A, 18A-P и Intel 14A, но окончательного решения нет.
Рядом на том же кампусе находится Fab 52, для которой уже заявлен процесс Intel 18A. Он сочетает транзисторную архитектуру RibbonFET с системой PowerVia, переносящей подачу питания на обратную сторону кремниевой пластины, что снижает ограничения при разводке схемы и важно для процессоров с высокой плотностью транзисторов.
В Орегоне Intel подтвердила, что использует литографию High-NA EUV в производственных процессах на площадке D1X, в том числе для отдельных компонентов процессоров Panther Lake. Технология вышла за пределы лабораторных экспериментов, но это не значит, что все слои всех выпускаемых чипов формируются с её помощью. У таких систем числовая апертура оптики увеличена с 0,33 до 0,55, что даёт более мелкие структуры, однако рабочее поле экспонирования меньше, поэтому часть крупных структур приходится формировать несколькими экспонированиями.
Компания продолжает расширять производство и в других регионах США: на площадке Ohio One в Нью-Олбани установили первый крупный несущий элемент будущего заводского корпуса, но дату начала выпуска чипов там не называют. Для Intel Foundry ключевая задача — доказать заказчикам способность выпускать чипы по передовым техпроцессам в больших объёмах с предсказуемой себестоимостью и приемлемым выходом годной продукции.